薄膜 - メーカー・企業4社の製品一覧とランキング

薄膜の製品一覧

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耐酸コーティング剤 塗るだけで効果発揮 規制物質不使用 透明薄膜

耐酸フッ素コ-ティング剤  燃料電池やリチウム電池の酸から強力に保護 自社内で施工可能。規制物質不使用。

フッ素コート剤「フロロサーフ」は、常温で形成される透明なフッ素樹脂皮膜が、耐酸保護、撥水撥油、油脂類のはいあがり(拡散)防止・指紋付着防止・防汚:潤滑・離型など、さまざまなメリットを発揮します。 【こんな用途に効果を発揮!】 ■金属の硫化や酸化防止 ■燃料電池やリチウム電池で発生する酸から金属や樹脂を保護。 ■電池周辺金属の錆防止 ■耐リチウム電解液コーティング ■ディスプレイやレンズの指紋付着防止 ■ミニチュアモーター・スピンドルモーターの軸受け油流出防止 ■封止樹脂流れ止め ■電気回路の絶縁防湿コーティング ■電気回路のリーク防止 ■樹脂やエラストマー成型の金型離型剤 【特長】 ◯特殊なフッ素樹脂を不燃性のフッ素系溶剤に溶解し溶液化。 ◯刷毛や浸漬などで簡単コーティング。室温で5秒~15分で乾燥します。 ◯乾燥後は透明で薄膜のフッ素樹脂皮膜が形成され、防汚、撥水、防湿等の効力を発揮します。 〇PFAS規制物質 PFOS PFOA PFHxSは一切不使用です。 ※無料サンプルご希望の方は、お問い合わせ内容に「サンプル希望」とご記載下さい。

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薄膜、強力粘接着PET基材両面テープ 「400P」シリーズ

強力接着、加工性良好 PET基材両面テープ

信頼性の高い粘着力 耐反発性、曲面追従性 高い寸法安定性・加工性良好

  • 補強・補修材

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東北大学技術:電子線を用いて透明フィルム上に高易動度のZnO薄膜

フレキシブルな透明電極を安価なZnO(酸化亜鉛)で作製可能!

■東北大学技術のご紹介(T19-673) 半導体材料である透明電極の性能改善によるウェアラブル端末のさらなる進化が期待されている。ZnOは代表的な導電性の酸化物であり、透明電極への応用が望まれる。化学気相成長(CVD)・原子層堆積(ALD)・スパッタリング等の薄膜作製法が確立されているが、導電性を損なわずに樹脂などのフレキシブル基材上に形成できないという課題があった。本発明では電子線をZnO粒子に照射することで、優れた導電性と、これまでにない安定した構造を有するZnO薄膜をPET上に作製することが可能となる。

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東北大学技術:λ型Ti3O5薄膜:T20-3141

比較的容易に作製可能、大面積(5×5mm以上)、安定して相転移を確認

λ-Ti3O5は可視光で光誘起相転移を示す初の酸化物材料であり、従来のカルコゲナイド材料に比較して環境負荷が小さいため、CD, DVD,BDなどの光記録材料への応用が期待される。しかし現状ではλ-Ti3O5が準安定相であるため、作製できる結晶の大きさがナノメートルオーダーに制限されている。 本発明は、TiO2を原料とし、パルスレーザー堆積(PLD)法において、実施可能な程度に容易な工夫を施すことで、デバイス応用が期待される大面積(5×5mm以上)のλ-Ti3O5薄膜を提供することを可能とする。 また従来法では基板上に直接λ-Ti3O5を作製することができず、中間にシード層が必要であったため、シード層の成分がλ-Ti3O5に拡散し、相転移を示さないことが問題であった。それに対して本発明は、シード層を介さず基板上に直接λ-Ti3O5薄膜を作製することができるため、安定して相転移を示すものである。

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東北大学技術:多結晶ホイスラー合金薄膜:T20-2968

多結晶でも単結晶と同レベルの特性を示し、フレキシブル基板上に製膜可能

Co2MnGaやCo2MnAlに代表されるCo基ホイスラー合金は、大きな異常ネルンスト効果や異常ホール効果を示すため、高感度センサや高効率熱電変換素子の候補材料として注目を集めている。上記の優れた特性を発現させるためには、単結晶成長させたバルク材料、または単結晶基板上に成長させた単結晶薄膜が必要と考えられ、そのような試料が作製されている。しかしながら、実際のデバイスへの応用を視野に入れると、単結晶基板を用いない多結晶膜において単結晶の材料と同等の特性を示すことが不可欠と考えられていた。 本発明では、単結晶薄膜と同レベルの異常ホール角(θAH~7.5 %)および以上ネルンスト係数(SANE~5 μV/K)を示しながらも、単結晶基板に限らない「多結晶ホイスラー合金薄膜」を提供する。多結晶層を絶縁性のAlN層で挟みこむことで、結晶配向の制御や結晶性の向上を促進することができる。

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『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応!

幅広い光学薄膜ラインアップと高精度研磨・薄膜加工技術でご要望にお応え。各種光学素材の精密研磨や1.4m超の精密ミラーまで成膜可能

HEFグループは、新たにフォトニクスという戦略的分野に参入、 絶え間なく表面処理サイエンスの技術革新に貢献していきます。 ABRISA Technologies(米国カリフォルニア州)、 KERDRY(フランス)、 FICHOU(フランス)の3社を買収し、長年グループ内で培ってきた 専門知識(PVD/PECVD薄膜、フェムト秒レーザー、表面特性評価ノウハウ)が この新たな分野でも活用できるに違いありません! 【特長】 ■紫外域から赤外域まで対応 ■各種光学素材の精密研磨(平面度λ/20) ■お客様のニーズに合わせて好適な薄膜設計からサポート ■微小チップから1.4m超の精密ミラーまで、成膜可能 ■単品の試作でも大量生産でも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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東北大学技術:新規な高温超伝導薄膜:T22-032

大気圧下で液体窒素以上の臨界温度を示す、磁気的に等方的な超伝導特性を実現

 電気抵抗ゼロの線材や強力な超伝導磁石への応用を目指し、大気圧下かつ液体窒素温度(−196℃)以上で超伝導を示す「常圧高温超伝導化合物」の開発が盛んである。これまでに上市されている銅酸化物系などは磁気異方性が大きい。そのため、例えば線材に適用する場合に、材料の結晶配向を制御しなければならないという課題があった。   本発明は、磁気等方的な常圧高温超伝導薄膜に関する。この化合物は磁気等方的であるため、結晶配向制御が不要であることを最大の特徴とする。右図に電気抵抗の温度依存性を示す。組成によっては、臨界温度が液体窒素温度を超えることが分かる。加えて、右表に上部臨界磁場の比を提示するが、この比が1に近い値を示しているため、磁気等方的であることが示唆される。本発明の化合物は、高い臨界温度と磁気等方的な性質を備え、応用例(下記)にあげる産業分野に好適である。

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