加熱(制御) - メーカー・企業と製品の一覧

加熱の製品一覧

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安全増防爆一斗缶用ヒーター側面加熱/M1370CH-EXTM

国内防爆構造型式検定合格の自己制御型ヒーターを内蔵

国内防爆構造型式検定合格の自己制御型ヒーターを内蔵 ※温度制御盤は非危険場所に設置してください。 ※防爆仕様は同ドラムヒーターと同様です。

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自己温度コントロールによる効率的な加熱『PTCヒーター』

温度制御不要!省エネ! 自己制御機能により、無駄な消費電力を最小限にまで抑えることができ、安全面にも優れたヒーター

PTCヒーター(Positive temperature coefficient)とは、チタン酸バリウムを主成分とする半導体セラミックを活用した発熱体です。 材料組成により、任意にキュリー温度を設定することができます。設定された温度を自己制御するため、異常発熱を起こすことなく、安全且つ最小限のエネルギーでの昇温を実現することができます。 またヒーター形状も様々なアプリケーションに柔軟に合わることが可能です。 【特長】 ■温度制御を削減することが可能 ■異常発熱を抑えることができ安全 ■無駄な電力消費を抑え非常に経済的 ■省スペースでの昇温が可能 ■様々なアプリケーションへの対応が可能

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誘導加熱の特長

急速に加熱が可能で、温度制御が容易!非接触加熱であり材料表面を傷つけません

誘導加熱とはコイルに大電流を流すことで磁場を発生させ、鋼材表面に渦電流を 誘導し、生じた渦電流によるジュール熱で鋼材自身を発熱させる技術です。 容易に必要な部分のみを局部的に加熱ができる等の 特長をもっています。 【特長】 ■急速に加熱が可能で、温度制御が容易 ■非接触加熱であり材料表面を傷つけない ■容易に必要な部分のみを局部的に加熱可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 特殊工法

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食材の中心部までしっかり加熱|ハイブリッドスチーマー『VH』

フードはリフトアップ式!ネット・内壁が開放状態となり容易に洗浄が可能

当製品は、リフトアップ機構、ウォーターシールの 機能付きを実現したハイブリッドスチーマーです。 各ブロックを独立制御するため、安定した温度維持と ムラのない加熱が可能。 シール部もウォーターシールを採用しているため、 サイドの蒸気漏れがなく、破損の心配がありません。 【特長】 ■高機能そして低価格 ■ブロック別湿度制御によりムラの無い加熱 ■洗浄が簡単な、高いサニタリー性 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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光加熱 総合カタログ

高効率なエネルギー源!赤外線ハロゲンヒータなどの光加熱製品をご紹介

当カタログでは、赤外線ハロゲンヒータを中心に光加熱製品を 掲載しております。 広い範囲を平面加熱することができる直管形ハロゲンヒータランプ「QIR」、 シリコンウェハの高温加熱装置等に適したサークル形ハロゲンヒータランプ 「QIR Circle」などをラインアップ。 その他にも「フラッシュランプアニール装置 SUS980 シリーズ」と 「LED アニール装置」についてもご紹介しています。 【掲載内容(一部)】 ■光加熱とは ■赤外線ハロゲンヒータ ■赤外線ハロゲンヒータの用途 ■赤外線ハロゲンヒータの種類と特殊加工 ■直管形ハロゲンヒータランプ QIR ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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全自動 酸添加・加熱(試料前処理)装置『DEENA2』

最高180℃まで加熱。酸添加加熱の自動化で処理時間、人的ミス、人への暴露の危険を大幅減

『DEENA2』は、試薬の添加、撹拌、加熱、メスアップなど 金属の成分測定等の前処理を自動化できる装置です。 加熱温度は最高180℃。反応性の高いサンプルは、はじめは低温で加熱し、 反応が落ち着いてきたら高温で加熱するといった制御も行えます。 純水、フッ酸、硝酸、塩酸等の試薬を最大8種類セット可能。 酸の添加を自動で行います。メスアップまでも自動化 手作業を大幅に削減できるほか、作業者への暴露の心配もなく安心です。 【特長】 ■最大60ポジション(50mLバイアル使用時) ■最大36ポジション(36mLバイアル使用時) ■排水、環境水、金属、非鉄金属、半導体部材など様々なサンプルに対応 ■超音波センサーにより、サンプルと非接触でメスアップが可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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16ZDEBSC 真空型 加熱・冷却型

真空中で加熱(最大温度:180℃)・冷却(最低温度:-20℃)しながら擂潰(すりつぶし)を行うことが出来る。

■特⾧ ・石川式撹拌擂潰機の基本性能はそのままで、真空中で加熱・冷却をしながら擂潰処理ができる。 ・磁器鉢を銅釜で覆い、均一に熱が伝わる機能を有する。熱伝導率の高いステンレス鉢にも対応。 ・外部循環液により、-20℃~180℃までの加熱・冷却を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・処理中も擂潰物の確認可能な窓を向かって左側に有する。 インバーターを標準装備し、杵の回転数を制御可能。 ■好適使用事例 ・スラリー、ペーストを分散、混練しながら濃縮、乾燥処理が同時にできるので、材料を固まらせることなく細かく粉砕。 ・溶剤を加えたスラリー、ペースト等の分散、混練時の濃縮作業で杵の撹拌効果と杵先の粉砕作業により均一な分散、混練処理を実現。 ・真空による脱水効果を利用し、同時に粉体の粒子を粉砕、解砕を おこなうので、水和物から水分を取り乾燥させることも可能。湿気を 嫌う材料の処理にも好適。 ・真空/減圧雰囲気、アルゴンや窒素ガスなどの不活性ガス置換雰囲気で濃縮、乾燥、脱泡、撹拌擂潰処理(撹拌、すり潰し、混練、分散、混練の同時処理)も出来るので嫌気性(酸素を嫌う)材料処理に好適

  • その他分析機器
  • 製造装置

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