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光音響イメージング、メディカル・バイオテクノロジー分野、分光分析用途等に好適です
『PEACOCK 532』は、小型なYAGレーザー内蔵一体型OPO波長 可変レーザーシステムです。 広い波長可変域にて高いピーク出力がGUIにより簡易な操作で得ることが可能。 また、出力、ショット数、波長(分光器オプション時)などをモニターできる シリアル通信機能やSMAファイバーポートも装備し、光音響イメージング、 メディカル・バイオテクノロジー分野、分光分析、リモートセンシング用途に 好適な製品となっております。 【特長】 ■一体型YAG-OPOシステム ■波長可変域 680nm-980nm(シグナル)、1150-2200nm(アイドラー) ■1ショット毎の波長可変可能 ■最高波長スイッチング周波数：30Hz ■リアルタイムアナログOPO出力モニター ※英語カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
高出力コンパクト型 窒素レーザ
LTB Lasertechnik Berlin社のMNLシリーズは、サブナノ秒、ナノ秒の高出力コンパクト型窒素レーザです。特にMNL100シリーズは、封じ切り型タイプで画期的なレーザです。 MNLシリーズは全て色素レーザにアップグレードが可能で、前段に結晶（ダブラー）を付け加えることにより、225nm-400nm（UV1）、205nm-225nm（UV2）の波長の出力が可能です。これらにより205nm-900nmまでの波長帯域をカバーできます。 特に現在流行のMALDI-TOFをはじめとして、LIF、UV顕微鏡、レーザアコスティック測定システムなど、多岐に渡る用途に応用可能です。また、有機物の分光分析の光源にも最適です
発振器からアンプまで全てを単一の筐体に統合することを実現したユニボディデザインの産業用グレード高出力フェムト秒レーザ
高効率キャビティ設計でサイズが劇的に小型化。また組み立てが容易で量産に最適化されており、産業用途に最適なほか、理科学用途にも最適。 ビーム安定性のあるウルトラファーストパルスを必要とする産業用途において、内蔵のパルスピッカーにより出力やエネルギーをコントロールし、環境に左右されずに安定したビーム品質と出力安定性を得ることが可能。 フレキシブルで柔軟性の高いBiBurst機能を追加することにより、新しいハイテクな製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において、マイクロマシニングアプリケーション等の新しいソリューションを提供。 材料加工の拡張性：各種金属･セラミック･サファイア･ガラスの穴あけや切断、質量分析用の材料アブレーション、IC チップ製造等の内部加工、多層構造材料加工等各種の高精度な微細加工が実現可能 I-OPAは産業用グレードの光パラメトリック増幅器で、CARBIDEに直付け可能。フレキシブルな波長可変が可能で分光分析や顕微分光に使用され、マルチフォトン顕微鏡用に最適。
10～17μｍの中赤外波長域を放射するDFB-CW量子カスケードレーザー。BTX HCN.CH3I UF6などの分析用光源に最適
mirSense社のuniMirは10～17μｍ帯域の中赤外波長を放射する分布帰還型（DFB）のCW量子カスケードレーザー（QCL）です。 ■10～17μｍの中赤外領域をカバーしたQCL製品ラインナップ 出力対応波長域は、BTX（ベンゼン、トルエン、キシレン）や、 シアン化水素（HCN)、ヨウ化メチル（CH3I）、六フッ化ウラン（UF6）等、 多くの分子の吸収スペクトル（指紋領域）をカバーしています。 高感度、高性能が求められる石油、ガス、原子力産業における分光分析、環境モニタリング用途の光源としてご使用頂けます。
ＬＤ励起、高出力・高エネルギー(最大190mJ @1064nm) が得られ、メインテナンスフリー、長寿命で分光分析に最適。
ダイオード励起により長期間にわたりメンテナンスフリー動作を実現 励起ダイオードの寿命は10億ショット以上と長寿命を実現。 フラッシュランプ放電音からも解放され、動作音も静かで静かな作業環境を提供。 NL230の高輝度パルスは、アブレーション加工、リモートセンシングやOPOの励起に最適。 ・最大190mJ @1064nm が得られ、パルス繰り返しも最大100Hz 可能。
広帯域な波長範囲をチューニング可能
広帯域・波長可変の外部共振器レーザー（ECL：External Cavity Laser）です。 ゲインチップと共振器内の波長可変フィルターがベースとなっており、 選択したモデル・中心波長に応じてtyp. 40～120nmの範囲で波長のチューニングが可能です。 ・波長チューニング範囲：40～120nm（標準モデル） ・FWHM：～0.5nm@1550nm ・ファイバー出力：各波長で>10mW ・チューニング速度：最大10Hz（全スペクトルにわたる連続チューニング） ・専用GUIでの操作 ・自動化向けのカスタムAPIの提供可能 標準モデルにはゲインチップが1個搭載されていますが、 カスタム対応の拡張モデルでは複数のゲインチップを使用し、 より広いチューニング範囲を実現することが可能です。
フェムト秒レーザの高出力化と高エネルギー化を同時に実現し、高繰返し動作、出射方向安定性により高品位、高精度な微細加工が高速で可能
優れたビーム品質、出射方向安定度と低ランニングコストにより微細加工、マイクロマシンニングに最適。 パルス幅・出力可変機能やパルス・オン・デマンド機能を搭載し、レーザ照射条件の変更が容易に行なえるので、アプリケーション開発や機器組込みに最適。またパルス繰返し周波数の高さ、高平均出力を活かし、S/N の向上と測定時間の大幅短縮など、理化学・研究開発分野に貢献できる。 PHAROS（高平均出力20W@1MHz)とORPHEUS(OPA)と波長拡張ユニットを組み合わせて、最大16μmまで波長可変が可能で分光分析等に最適。 また高出力・高エネルギータイプ（20W 4mJ/pulse@3kHz) 、極短パルス幅タイプ(>100fs)も加わり、各種加工、アプリケーション開発や機器組み込みに最適。 レーザダイオード直接励起により、大幅な小型化と低消費電力化を実現した高出力極短パルス（フェムト秒）レーザ。 パルス幅・出力可変機能や、パルス・オン・デマンド機能を搭載し、 レーザ照射条件の変更が容易に行なえる。
