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加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現
『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置
大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置！大面積で一括照射、高照射が可能！
『SUS980シリーズ』は、結晶化、剥離、酸化膜形成などの用途にお使いいただける フラッシュランプアニール装置です。 ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御することで、 ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec)。 ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し大面積で一括照射、 高照射が可能です。 【特長】 ■深さコントロール(バルス制御) ■ランプに流れる電流を半導体スイッチでON／OFF制御 ■ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ■複数パルスの照射も可能 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シリコン薄膜をアニール(焼く)する装置の小型化・軽量化を実現した事例をご紹介
半導体業界へ「アニール装置」を改造した事例をご紹介いたします。 既存機の電気設備の老朽化の為のリニューアルが必要でした。 チャンバー内を低真空にして窒素を注入して搬送させ、アニールする機械で ストッカからアニールステージに移動させる時真空圧を維持し、ストッカー部 のみ取出し可能とする構造にすること、掃除用マドを配置し掃除しやすく したいとのご要望がありました。 既存機の改造で小型化、軽量化を実現し、要望にお応えしました。 【事例概要】 ■課題 ・ストッカからアニールステージに移動させる時真空圧を維持する ・ストッカー部のみ取出し可能とする構造にする ・掃除用マドを配置し掃除しやすくする ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
