流体解析ソフト - 企業ランキング(全7社)

更新日：2025年09月17日集計期間:2025年08月20日〜2025年09月16日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
株式会社ウェーブフロント本社	所在地神奈川県従業員数 29 事業内容株式会社ウェーブフロントの企業理念は、日本の製造業における研究開発～設計～製造～メンテナンスまでのプロセスをシミュレーションという観点からサポートし、企業活動の高度化・効率化に寄与することです。弊社ではこの企業理念の下、 CAEと設備資産管理、信頼性に関するソリューションを提供しています。 CAEの分野では流体解析からマルチフィジックス解析まで各種シミュレーションソフトウェアとこれに関連するプリプロセッサ・ポストプロセッサを、設備資産管理の分野では、各種の装置・設備のメンテナンス管理ソフトウェアを、機能安全・信頼性の分野では故障率のコンサルティングからツールの提供まで一貫したサービスを行っています。主要取引先株式会社デンソー株式会社アイシン三菱電機株式会社ナブテスコ株式会社日本信号株式会社カヤバ株式会社出光興産株式会社東海交通機械株式会社	3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』応相談	【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで，真空チャンバーを　用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜速度,成膜分布のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので，実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ●高い並列効率から，大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が　有っても，必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより，シミュレーションが始めての方や実験で　忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。	◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響
		粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』応相談	【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで，真空チャンバーを　用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜速度,成膜分布のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので，実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ●高い並列効率から，大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が　有っても，必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより，シミュレーションが始めての方や実験で　忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。	◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響
		【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈応相談	【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、　真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、　品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や　実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI上で、複数の反応式を設定も可能・成膜速度分布・電子とイオンの密度分布・ラジカルと励起種の発生分布・イオンフラックス分布・エロージョン速度分布　　　　　　など	◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響
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株式会社ウェーブフロント本社

所在地

神奈川県

従業員数

29

事業内容

株式会社ウェーブフロントの企業理念は、日本の製造業における研究開発～設計～製造～メンテナンスまでのプロセスをシミュレーションという観点からサポートし、企業活動の高度化・効率化に寄与することです。弊社ではこの企業理念の下、 CAEと設備資産管理、信頼性に関するソリューションを提供しています。 CAEの分野では流体解析からマルチフィジックス解析まで各種シミュレーションソフトウェアとこれに関連するプリプロセッサ・ポストプロセッサを、設備資産管理の分野では、各種の装置・設備のメンテナンス管理ソフトウェアを、機能安全・信頼性の分野では故障率のコンサルティングからツールの提供まで一貫したサービスを行っています。

主要取引先

株式会社デンソー株式会社アイシン三菱電機株式会社ナブテスコ株式会社日本信号株式会社カヤバ株式会社出光興産株式会社東海交通機械株式会社

代表製品

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

概要

【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで，真空チャンバーを　用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜速度,成膜分布のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので，実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ●高い並列効率から，大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が　有っても，必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより，シミュレーションが始めての方や実験で　忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。

用途/実績例

◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響

粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

概要

【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで，真空チャンバーを　用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜速度,成膜分布のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので，実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ●高い並列効率から，大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が　有っても，必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより，シミュレーションが始めての方や実験で　忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。

用途/実績例

◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

概要

【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、　真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、　品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や　実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算・GUI上で、複数の反応式を設定も可能・成膜速度分布・電子とイオンの密度分布・ラジカルと励起種の発生分布・イオンフラックス分布・エロージョン速度分布　　　　　　など

用途/実績例

◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響
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所在地

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事業内容

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