加熱装置 - 企業ランキング(全29社)

更新日: 集計期間:2026年06月10日〜2026年07月07日
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会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
【特長】 ○試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能 ○最高温度は1200℃ ○高速加熱冷却が可能な赤外線ゴールドイメージ炉と加熱チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型加熱装置 ○お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能 ○加熱中の温度データをパソコ... 【用途】 ○Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 ○光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 ○ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 ○熱サイクル試験 ○金属材料の焼鈍 ○コーティング膜の耐熱評価 ○有機材料、樹脂類の加熱、乾燥
【特長】 ○試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能 ○最高温度は1200℃ ○高速加熱冷却が可能な赤外線ゴールドイメージ炉と加熱チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型加熱装置 ○お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能 ○加熱中の温度データをパソコ... 【用途】 ○Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 ○光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 ○ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 ○熱サイクル試験 ○金属材料の焼鈍 ○コーティング膜の耐熱評価 ○有機材料、樹脂類の加熱、乾燥
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  1. 代表製品
    卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050Z卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050Z
    概要
    【特長】 ○試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能 ○最高温度は1200℃ ○高速加熱冷却が可能な赤外線ゴールドイメージ炉と加熱チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型加熱装置 ○お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能 ○加熱中の温度データをパソコ...
    用途/実績例
    【用途】 ○Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 ○光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 ○ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 ○熱サイクル試験 ○金属材料の焼鈍 ○コーティング膜の耐熱評価 ○有機材料、樹脂類の加熱、乾燥
    卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050Z卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050Z
    概要
    【特長】 ○試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能 ○最高温度は1200℃ ○高速加熱冷却が可能な赤外線ゴールドイメージ炉と加熱チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型加熱装置 ○お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能 ○加熱中の温度データをパソコ...
    用途/実績例
    【用途】 ○Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 ○光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 ○ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 ○熱サイクル試験 ○金属材料の焼鈍 ○コーティング膜の耐熱評価 ○有機材料、樹脂類の加熱、乾燥