サーモグラフィ用解析ソフトEasyThermo
熱画像と温度データをシームレスに保存・出力・分析
赤外線カメラ グローバルNo.1のFLIR System社のThermoVision(TM) A-Series、ThermaCAM(TM) SC640から高速に取り込んだ熱画像と温度データをシームレスに保存・出力・分析
- 企業:株式会社ビットストロング
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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熱画像と温度データをシームレスに保存・出力・分析
赤外線カメラ グローバルNo.1のFLIR System社のThermoVision(TM) A-Series、ThermaCAM(TM) SC640から高速に取り込んだ熱画像と温度データをシームレスに保存・出力・分析
簡単な情報入力だけでその場で塗装前後の温度効果が測定可能!
μーCOOLは、エクセル上で計算する温度シミュレーションソフトです。塗装条件や室内サイズを入力するだけで、その場で塗装前後の温度効果が計算できます。客先との商談時に、強力な説得ツールとなります。 ■特長 ・エクセルマクロを使用 ・NEDOの日射量データベースを使用 ・施設(工場)等の大きさを設定 ・10日間分の室内温度変化を計算 ・遮熱塗装有り無しによる、温度低下効果を計算 ・カスタマイズ対応 *その他詳細について* 何か御不明点等ございましたら、お気軽にお問い合わせください!
簡単な情報入力だけでその場で塗装前後の温度効果が測定可能!
μーCOOLは、エクセル上で計算する温度シミュレーションソフトです。塗装条件や室内サイズを入力するだけで、その場で塗装前後の温度効果が計算できます。客先との商談時に、強力な説得ツールとなります。 ■特長 ・エクセルマクロを使用 ・NEDOの日射量データベースを使用 ・施設(工場)等の大きさを設定 ・10日間分の室内温度変化を計算 ・遮熱塗装有り無しによる、温度低下効果を計算 ・カスタマイズ対応 *その他詳細について* 何か御不明点等ございましたら、お気軽にお問い合わせください!
簡単な情報入力だけでその場で塗装前後の温度効果が測定可能!
μーCOOLは、エクセル上で計算する温度シミュレーションソフトです。塗装条件や室内サイズを入力するだけで、その場で塗装前後の温度効果が計算できます。客先との商談時に、強力な説得ツールとなります。 ■特長 ・エクセルマクロを使用 ・NEDOの日射量データベースを使用 ・施設(工場)等の大きさを設定 ・10日間分の室内温度変化を計算 ・遮熱塗装有り無しによる、温度低下効果を計算 ・カスタマイズ対応 *その他詳細について* 何か御不明点等ございましたら、お気軽にお問い合わせください!
様々な形でキャプチャされた画像を分析!サーモグラフィ情報分析のソフトウェアをご紹介
当社で取り扱う『HIKMICRO Analyzer/HIKMICRO Viewer』について ご紹介いたします。 「HIKMICRO Analyzer」は、ポイント・ライン・長方形・円・ポリゴンなど 様々な形でキャプチャされた画像を分析し、レポートを生成することが可能。 また、「HIKMICRO Viewer」は、ハンディ設備向けとなっており、 リモート操作ができ、当社製品の"Mini1"に対応しています。 【特長】 <HIKMICRO Analyzer> ■材料の分類、タグの追加など、材料管理機能を備えている ■温度測定ルール、画像表示モード、カラーアラームの設定など、 数多くのサーモグラフィデータ分析操作を実行可能 ■材料分析後、必要に応じてサーモグラフィの結果表示、画像の保存、 レポートのエクスポートなどの機能が実現できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
弊社が販売する心拍センサ(WHS-1 or 3)で取得した生体情報を用い、心拍変動解析(HRV解析)するためのソフトウェアです。
【RRI Analyzer 2】 ~主な機能~ ○WHS-1を用いれば無線モードによるリアルタイム解析が最大10台同時に可能 ○WHS-1のメモリデータや過去に測定したCSVデータ、WHS-3で取得したCSVデータを読み込ませて、再解析も可能 ○異常値フィルターを搭載し、筋電などのノイズを除去することが可能 ○パラメータにより解析条件を任意に変更可能 ■取得データ ・RRI ・3軸加速度 ・体表温度 ・瞬時心拍数 ・体動値 ■周波数解析項目 ・ULF ・VLF ・LF ・HF ・TotalPower ・LF/HF ・LF/(LF+HF) ・LFnorm ・HFnorm ・PSD ■時間領域解析 ・SDNN ・RMSSD ・CVRR ・NN50 ・pNN50 ・AC ・DC ・Histogram ・LorenzPlot RRI Analyzer 2 製品情報:https://www.uniontool.co.jp/product/sensor/rrianalyzer2.html
『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式スパッタ」
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle-PLUSでは重畳2周波CCPの計算も可能です。
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いたAl薄膜作製"シミュレーション事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析と静電加速"シミュレーション事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」シミュレーション事例
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング解析」シミュレーション事例
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 sales@wavefront.co.jp