シミュレーションソフト(製造) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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シミュレーションソフトの製品一覧

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機械学習を用いた数値シミュレーションの高速化

機械学習によるパラメータ最適化により、高速な数値シミュレーションが実現できる!

流体、構造、電磁場等の製品の扱う場を偏微分方程式の数値シミュレーション による解析では、計算時間がかかることが大きな課題があります。 機械学習的手法を用いることで、計算時間の大幅な削減が可能。 また、従来行われてきたCPUでのシミュレーションをGPU上で実行することで ベストケースで100倍の高速化が可能になります。 【技術詳細】 ■Faissの機械学習friendlyな数値シミュレーションアルゴリズムの開発高速化  ・従来利用されてきた数値シミュレーションアルゴリズムを   いくつかのパラメータを適切に設定することで、   従来の精度を損なわずに高速化できるアルゴリズムを開発  ・機械学習によるパラメータ最適化により高速な数値シミュレーションが実現可能 ■数値シミュレーションのGPU上での実行  ・従来行われてきたCPUでのシミュレーションをGPU上で実行することで   ベストケースで100倍の高速化が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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『SwRI Software』

エンタープライズ、科学、産業分野でイノベーションと効率化を実現するR&D主導型のソフトウェア『SwRI Software』

SwRI Software は 非営利の研究開発機関が宇宙・防衛レベルの品質で提供する 多分野向けの高度かつカスタマイズ自在なソフトウェアです。 製造業、航空宇宙、防衛など幅広い領域で実績があり、 企業ITや意思決定者に向けて高い技術力・実運用力・ビジネス効果を提供します。 【機能】 ■NPSS により、ターボ機械やロケットエンジンの詳細な熱力学サイクルを高精度でシミュレーションできます。 ■NASGRO は破壊力学モデルを用いて材料や構造物の疲労亀裂進展を評価します。 ■Floodlight は AI を活用して質量分析データから未知化合物を迅速に同定します。 ■ENABLE は通常のカメラ映像だけでマーカー不要の 3D 動作解析を行います。 ■SPARTA は複雑な電磁環境下での信号捕捉と電子戦脅威検出をリアルタイムで実施します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『INTEGNANCE VR』最短3日で仮想空間上に表現!

【活用事例有】大手製造業各社導入!工場・プラントを手軽にデジタルツイン。いつでも、どこでも、誰でも、すぐに使える3Dビューア

各現場で進む3DCADの採用が進んでいる中で、撮影にかかる時間や費用、専用の高性能PCの必要性が課題となっています。 「INTEGNANCE VR」は、これらの課題に対応し、従来の撮影期間を大幅に短縮。 最短3日でご利用いただけます。 更に、専用のサーバーや高性能PCは不要で、お手持ちのPCでどなたでも簡単にご利用可能。 この仮想空間上に表示される工場は、コンテンツの管理や共有が簡単にでき、 目的箇所の確認から設備導入時の配置検討、配管工事の見積や計画、工事箇所の共有など、大幅な工数削減が実現できます。 おかげさまで、日揮グループのサービスとして、既に多くの大手企業に導入実績がございます。 【ユースケース】 ■空間シミュレーション ■配管Navi ■業務視点の検索・絞り込み ■位置座標管理(マーカー機能) ■2点間の測長 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他CAD

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【事例】『DSMC-Neutrals』でのダスト挙動の解析

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 科学計算・シミュレーションソフトウェア
  • その他 水素・燃料電池
  • その他ソフトウェア

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半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • 科学計算・シミュレーションソフトウェア
  • 分析・予測システム

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真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • 分析・予測システム

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【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【事例】『DSMC-Neutrals』シャワーヘッド型CVD解析

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

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プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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  • その他ソフトウェア
  • その他分析機器

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3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネトロンスパッタ"シミュレーションが可能

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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